特許

J-GLOBAL ID：200903073447385158

基板の洗浄装置と洗浄方法

発明者： 佐藤 勝広 ,  小野寺 直子 ,  木村 丈児
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-285376
公開番号（公開出願番号）：特開平8-141531
出願日： 1994年11月18日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：

【要約】【目的】 基板の洗浄装置に関し、基板上の異物を確実に除去し、異物残留に起因する不良をなくして生産性向上を図ることを目的とする。【構成】 基板載置台113 とその斜め上方に固定されて該基板載置台上の基板10に洗浄液を供給する洗浄液噴出ノズル114 とを含む基板載置部11と、垂直な洗浄具装着軸121 とその下端面に固定される洗浄具311 とを含んで上記基板載置部11の上方に配置される洗浄部31とを少なくとも備えた基板の洗浄装置であって、上記洗浄具311 のスポンジ体312 からなる上記基板10との接触域を、少なくとも表面では洗浄液流路312aを兼ねた隙間を介して複数に分割して構成する。

請求項（抜粋）：

基板載置台とその斜め上方に固定されて該基板載置台上の基板に洗浄液を供給する洗浄液噴出ノズルとを含む基板載置部と、垂直な洗浄具装着軸とその下端面に固定される洗浄具とを含んで上記基板載置部の上方に配置される洗浄部と、を少なくとも備えた基板の洗浄装置であって、上記洗浄具のブラシまたはスポンジ体からなる上記基板との接触域が、少なくとも表面では洗浄液流路を兼ねた隙間を介して複数に分割されていることを特徴とする基板の洗浄装置。

IPC (6件)：

B08B 7/04 ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68 ,  H05K 3/26

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-173975   出願人：シヤープ株式会社