特許
J-GLOBAL ID:200903073447445541
含浸処理方法及びそれによって含浸処理された製品の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
森 廣三郎
, 森 寿夫
, 中務 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-158095
公開番号(公開出願番号):特開2004-360097
出願日: 2003年06月03日
公開日(公表日): 2004年12月24日
要約:
【課題】超臨界流体中で基材に対して含浸物質を含浸させる含浸処理方法において、ムラなく均一に含浸させることができ、色替えの際の清掃が容易であり、しかも装置コストを低減することもできる含浸処理方法を提供すること。【解決手段】超臨界流体中で基材に対して含浸物質を含浸させる含浸処理方法において、含浸処理槽10内に基材を投入し、含浸物質を共溶媒に溶解又は分散させた液体を含浸処理槽10内に配置された含浸物質容器13に入れてから、含浸処理槽10を密閉して超臨界流体で満たし、その後含浸物質容器13内の液体を超臨界流体中に徐々に加える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
超臨界流体中で基材に対して含浸物質を含浸させる含浸処理方法において、含浸処理槽内に基材を投入し、含浸物質を含浸処理槽内に配置された含浸物質容器に入れてから、含浸処理槽を密閉して超臨界流体で満たし、その後含浸物質容器内の含浸物質を超臨界流体中に加えることを特徴とする含浸処理方法。
IPC (4件):
D06M23/00
, D06B19/00
, D06P5/00
, D06P7/00
FI (4件):
D06M23/00 Z
, D06B19/00 Z
, D06P5/00 A
, D06P7/00
Fターム (37件):
3B154AA02
, 3B154AA03
, 3B154AA07
, 3B154AA08
, 3B154AA09
, 3B154AA12
, 3B154AB20
, 3B154AB21
, 3B154AB22
, 3B154BA07
, 3B154BB02
, 3B154BB32
, 3B154BC01
, 3B154BD01
, 3B154BD15
, 3B154BD17
, 3B154BE04
, 3B154DA13
, 3B154DA26
, 4H057AA02
, 4H057DA01
, 4H057FA03
, 4H057FA16
, 4H057FA17
, 4H057FA31
, 4H057GA07
, 4H057GA16
, 4H057GA17
, 4H057HA01
, 4H057HA02
, 4H057JA10
, 4H057JA14
, 4H057JB02
, 4L031BA08
, 4L031CA09
, 4L031DA00
, 4L031DA09
引用特許:
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