特許

J-GLOBAL ID：200903073479396895

反応チャンバの温度制御方法および装置

発明者： デイビッド ケー. カールソン ,  ノーマ リリー ,  ロジャー エヌ. アンダーソン
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-125125
公開番号（公開出願番号）：特開平9-312265
出願日： 1996年05月20日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【課題】 従来のCVD法に伴う欠点を克服すること。【解決手段】 加工物処理システム(100)内で反応チャンバ(102)近傍の冷媒(空気)流量を、反応チャンバ(102)の壁温が所定の目標温度で維持されるように制御する装置および付随方法。目標温度は、典型的に、チャンバ(102)内で現在完遂されており、例えば、堆積プロセス中の温度およびクリーニングプロセス中の異なる温度を利用する、プロセスを適正化する温度である。当該装置は、温度測定器(132、134、136)を含み、チャンバ壁の温度を測定する。測定温度は、所定の目標温度と比較される。閉ループシステムは、チャンバ壁近傍の空気流量を制御し、測定温度は実質的に目標温度と等しくなる。空気流量の制御は、反応チャンバ(102)を過ぎた空気を運ぶ為に包囲体に空気を供給する導入管(120)内に配置された空気流量制御装置(138)を備える。包囲体は、反応チャンバ(102)を支持し内包するハウジング(118)の一部を形成する。

請求項（抜粋）：

反応チャンバの壁の温度を制御する装置であって、包囲体(shroud)に接続され、当該包囲体に冷媒を移送する導入管であって、前記反応チャンバ近傍の冷媒流を限定して制御する前記導入管と、前記包囲体に接続され、前記包囲体から前記冷媒を排出する導出管と、前記導入管内に配置され、前記包囲体に流れる冷媒流量を制御する冷媒流量制御装置と、前記反応チャンバの前記壁の温度を測定する手段と、前記測定温度が目標温度に達するまで、反応チャンバ近傍の冷媒流量を変えることにより前記測定温度が変えられるように、測定温度に応じて前記冷媒流量制御装置を制御する手段と、を備えて構成される装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 ,  C30B 35/00

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 Z ,  C30B 35/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 薄膜気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-108465   出願人：株式会社荏原製作所
• 放電型プラズマ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-291795   出願人：ソニー株式会社