プラズマ処理装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-326647
公開番号（公開出願番号）：特開平8-186093
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：

【要約】【目的】処理室内に付着する反応生成物を抑制し、異物のない処理室でのクリーンなプラズマ処理を行なう。【構成】真空室1上部に温調された放電ブロック5を設け、放電ブロック5の内壁を石英スリーブ21a,21bで覆い、ガス吹き出し口22を石英スリーブ21aと石英スリーブ21bとの間に形成し、石英スリーブ21bと放電ブロック5との間に処理ガスを介在させて放電ブロック5の熱をガスを介して石英スリーブ21bに伝熱し、効果的に石英スリーブを加熱して反応生成物の付着を防止する。

請求項（抜粋）：

加熱温調された放電室形成部材のプラズマが形成され前記プラズマにさらされる内壁面に保護部材を設け、前記放電室形成部材内壁面と前記保護部材との間にガスを介在させたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/50

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-016730
サセプタ温度制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-356442 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平1-231320

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