特許
J-GLOBAL ID:200903073504506757
3-ヒドロキシメチルテトラヒドロフランの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-054991
公開番号(公開出願番号):特開2002-255950
出願日: 2001年02月28日
公開日(公表日): 2002年09月11日
要約:
【要約】【課題】 シクロヘキサノン及びブタ-2-エン-1,4-ジオールを出発物質とする、式IVの3-ヒドロキシメチルテトラヒドロフランの製造方法の提供。【解決手段】 ヒドロホルミレーションをキーステップとして有する式IVの3-ヒドロキシメチルテトラヒドロフランの触媒的製造方法であって、式IIIの9-ヒドロキシメチル-7,12-ジオキサスピロ[5,6]ドデカンを、酸触媒の存在下で、アルコールと反応させて、得られた3-ヒドロキシメチルテトラヒドロフランを回収することを含む方法。【化1】【化2】
請求項(抜粋):
式IVの3-ヒドロキシメチルテトラヒドロフランの製造方法であって、式IIIの9-ヒドロキシメチル-7,12-ジオキサスピロ[5,6]ドデカンを100〜140°Cの範囲の温度で、1〜4時間の範囲の時間、酸触媒の存在下で、アルコールと反応させること、及び得られた3-ヒドロキシメチルテトラヒドロフランを回収することを含む方法。【化1】【化2】
IPC (3件):
C07D307/12
, C07B 61/00 300
, C07D321/10
FI (3件):
C07D307/12
, C07B 61/00 300
, C07D321/10
Fターム (5件):
4C037CA06
, 4H039CA42
, 4H039CC50
, 4H039CE90
, 4H039CH90
引用特許:
引用文献:
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