基板への紫外線照射装置及び基板処理システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-300186
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148290
出願日： 1995年11月17日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】異なる複数の膜種に対応してトータル露光量を適正に且つ精度良く変化させる。【解決手段】紫外線照射装置23の光源として誘電体バリヤ放電エキシマランプ41を使用し、基板の薄膜膜種に応じた適正な紫外線照射時間を紫外線照射装置用CPU34の内部メモリ34aに記憶し、処理しようとする基板の膜種の条件を入力すると、それに応じて紫外線の適正な照射時間を制御部4が読み出し、その適正な紫外線照射時間に従って紫外線照射装置23のランプ41の電源43のオン/オフ切替えを行う。

請求項（抜粋）：

紫外線を出射する光源を有し、光源からの紫外線を基板に照射する照射機構と、基板の処理条件を入力する入力手段と、基板の処理条件に応じた紫外線の適正照射量を記憶する記憶手段と、前記入力手段により入力された基板の処理条件に応じて前記記憶手段より対応する適正照射量を読み出し、当該適正照射量に応じて前記照射機構を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする基板への紫外線照射装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/26 , H01L 21/306

FI (3件)：

H01L 21/304 341 D , H01L 21/26 L , H01L 21/302 P

引用特許：

審査官引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-247463 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平1-104382
誘電体バリヤ放電ランプ
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-146690 出願人：ウシオ電機株式会社

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