特許

J-GLOBAL ID：200903073657237879

ガス供給方法およびガス供給装置

発明者： 菊池 泰彦 ,  渡辺 和則 ,  寺嶋 誠一
出願人/特許権者： 信越半導体株式会社
代理人 (1件)： 荒船 良男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-226303
公開番号（公開出願番号）：特開2003-042395
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】 不純物として含まれる水分の量が低減された高純度ガスを安定して供給できるガス供給装置を提供する。【解決手段】 液化塩化水素2L、3Lが充填されたボンベ2、3から気相成長装置8に塩化水素ガスを供給するガス供給装置1において、ボンベ2、3の内圧Pが、液化塩化水素2L、3Lに含まれる水分を液体に保つことができる所定圧P0以上の状態の時にのみ、このボンベ2、3から気相成長装置8へ塩化水素ガスを供給する。

請求項（抜粋）：

ボンベの内圧が、該ボンベに充填された液化ガスに含まれる水分を液体に保つことができる圧力以上の時にのみ、前記ボンベからガスを供給することを特徴とするガス供給方法。

IPC (6件)：

F17C 7/00 ,  B01J 4/00 102 ,  C23C 16/448 ,  F17D 3/01 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

F17C 7/00 A ,  B01J 4/00 102 ,  C23C 16/448 ,  F17D 3/01 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 N

Fターム (28件)：

3E072DB03 ,  3J071AA01 ,  3J071BB11 ,  3J071BB14 ,  3J071CC11 ,  3J071DD01 ,  3J071EE02 ,  3J071EE24 ,  3J071FF11 ,  4G068AA01 ,  4G068AB02 ,  4G068AC20 ,  4G068AD40 ,  4G068AF06 ,  4K030AA03 ,  4K030CA04 ,  4K030EA01 ,  5F004AA13 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004DA29 ,  5F004DB02 ,  5F004EA38 ,  5F045AA03 ,  5F045AB02 ,  5F045AC12 ,  5F045EB06 ,  5F045EE02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 液化ガス供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-259167   出願人：東芝エンジニアリング株式会社
• 特開昭58-005596
  
• 高流速における超高純度気体のバルク輸送
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-037969   出願人：レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
• 特開平2-201509