特許

J-GLOBAL ID：200903073679680334

プロキシミティ露光用階調マスク

発明者： 高橋 正泰 ,  鈴木 亜弥
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-306878
公開番号（公開出願番号）：特開2008-122698
出願日： 2006年11月13日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：

【課題】半透明領域および透過領域が隣接している領域で回折光の干渉等が生じ難いプロキシミティ露光用階調マスクを提供。【解決手段】透明基板1と、前記透明基板1上に形成された遮光膜2と、前記透明基板1上に形成された半透明膜3とを有し、前記透明基板1が露出した透過領域、前記透明基板1上に前記遮光膜2が設けられた遮光領域、および前記透明基板1上に前記半透明膜3のみが設けられた半透明領域を有し、前記半透明領域および前記透過領域が隣接するパターンを有するプロキシミティ露光用階調マスクであって、 前記半透明膜の透過率が10%〜35%の範囲内の場合、前記半透明領域を透過する光の位相と前記透過領域を透過する光の位相との差が40°〜70°の範囲内であり、 前記半透明膜の透過率が36%〜60%の範囲内の場合、前記半透明領域を透過する光の位相と前記透過領域を透過する光の位相との差が20°〜50°の範囲内である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基板と、前記透明基板上に形成された遮光膜と、前記透明基板上に形成された半透明膜とを有し、前記透明基板が露出した透過領域、前記透明基板上に前記遮光膜が設けられた遮光領域、および前記透明基板上に前記半透明膜のみが設けられた半透明領域を有し、前記半透明領域および前記透過領域が隣接するパターンを有するプロキシミティ露光用階調マスクであって、 前記半透明膜の透過率が10%〜35%の範囲内の場合、前記半透明領域を透過する光の位相と前記透過領域を透過する光の位相との差が40°〜70°の範囲内であり、 前記半透明膜の透過率が36%〜60%の範囲内の場合、前記半透明領域を透過する光の位相と前記透過領域を透過する光の位相との差が20°〜50°の範囲内であることを特徴とするプロキシミティ露光用階調マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

G03F1/08 A ,  G03F7/20 501

Fターム (7件)：

2H095BA03 ,  2H095BB03 ,  2H095BC04 ,  2H095BC24 ,  2H095BC26 ,  2H097GA45 ,  2H097LA12

引用特許：

出願人引用 (2件)

• グレートーンマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-386050   出願人：ホーヤ株式会社
• 液晶表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-152118   出願人：松下電器産業株式会社