特許
J-GLOBAL ID：200903051984588282

セラミック微細パターン形成用モールド膜とその製造方法

発明者：
近藤 新二

近藤 新二 について

, 
平野 眞一

平野 眞一 について

, 
菊田 浩一

菊田 浩一 について


出願人/特許権者：
ファインセラミックス技術研究組合

ファインセラミックス技術研究組合 について


代理人 (1件)： 石田 康昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-208564
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040548
出願日： 1997年07月17日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】セラミック前駆体のゾルが微細パターンの空隙部にのみ充填されるように改良されたセラミック微細パターン形成用モールド膜を提供する。【解決手段】基板1の上に形成されたレジスト樹脂パターン2の微細パターン空隙部に撥水・撥油性有機高分子樹脂3を充填後、レジスト樹脂を除去しその空隙部にのみセラミック前駆体4を充填可能にしたセラミック微細パターン形成用モールド膜を得る。
請求項（抜粋）：
基板上に撥水・撥油性有機高分子樹脂パターン膜が形成され、パターン膜の空隙部の露出した基板表面上にセラミック前駆体を充填できるようにしたことを特徴とするセラミック微細パターン形成用モールド膜またはこれより得られるセラミック微細パターン。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ,  B05D 1/32 ,  C08L 27/12 ,  C08L 29/10 ,  H01B 3/00
FI (5件)：
H01L 21/302 J ,  B05D 1/32 Z ,  C08L 27/12 ,  C08L 29/10 ,  H01B 3/00 F
引用特許：
審査官引用 (7件)
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