特許

J-GLOBAL ID：200903073756294043

パターン検出方法及び装置

発明者： 石井 勇樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 梶原 康稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-321096
公開番号（公開出願番号）：特開平9-138107
出願日： 1995年11月15日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：

【要約】【課題】 短時間で効率的にパターン測定を行い、測定精度の向上を図る。【解決手段】 レーザ光源30の出力光は、ビームエクスパンダ32,微小走査ステージ34,ミラー40,収光レンズ42を介してウエハ46上に微小スポット48を形成し、微小走査ステージ34によってウエハパターンを走査する。微小走査ステージ34の移動による微小スポット48の走査位置は干渉計50で読み取られ、ステージ44の変位は干渉計52で読み取られる。パターンエッジによる散乱光は光検出器54,56,加算器58,A/D変換器60を介して出力される。これらステージ位置及び散乱光情報は、位置生成回路62による基準クロックで対応付られて波形メモリ64に格納される。信号波形補正回路66では、ウエハステージ変位に応じてパターン位置に相当する散乱光位置が補正される。

請求項（抜粋）：

光源から出力された光束を収光光学系により収光して微小光束を形成し、走査手段によって前記微小光束を走査しつつステージ上のパターンに投射するステップ;前記ステージ及び走査手段の各位置を基準クロックに基づいてそれぞれ測定するとともに、パターンの凹凸による微小光束の散乱光を基準クロックに基づいて検出するステップ;これによって得られた測定値を参照して、前記散乱光の位置情報を基準クロックに基づいて補正するステップ;を備えたことを特徴とするパターン検出方法。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G01B 11/02 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G01B 11/00 A ,  G01B 11/02 Z ,  H01L 21/66 J

引用特許：

審査官引用 (4件)

• パターンのエッジ検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-310944   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-159745
  
• 画像入力装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-179852   出願人：株式会社東芝
• 特開平4-159745