特許

J-GLOBAL ID：200903073859832990

膜ろ過モジュールの洗浄方法、膜ろ過装置および薬品洗浄装置

発明者： 稲住 義憲 ,  大面 英巳 ,  野村 実 ,  多久 和夫 ,  竹田 静雄
出願人/特許権者： 水道機工株式会社
代理人 (1件)： 有近 紳志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-071173
公開番号（公開出願番号）：特開2003-265935
出願日： 2002年03月15日
公開日（公表日）： 2003年09月24日
要約：

【要約】【課題】ファウリング物質により低下した膜ろ過モジュールのろ過性能を回復させる。【解決手段】膜ろ過モジュールの原水側を大気圧未満に減圧し、次に大気圧以上に急昇圧し、大気圧に戻した後、エアスクラビングしながら洗浄水または薬液の水位上下を複数回行う。その際、膜ろ過モジュールのろ過水側に大気圧以上の空気を満たしておく。【効果】気泡の膨張・急収縮により、ファウリング物質を剥し易くなり、洗浄効果を向上できる。

請求項（抜粋）：

膜ろ過モジュールの原水側を大気圧未満に減圧することを特徴とする膜ろ過モジュールの洗浄方法。

IPC (4件)：

B01D 65/02 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 65/06 ,  C02F 1/44

FI (4件)：

B01D 65/02 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 65/06 ,  C02F 1/44 H

Fターム (16件)：

4D006GA06 ,  4D006HA19 ,  4D006KC03 ,  4D006KC13 ,  4D006KC14 ,  4D006KC15 ,  4D006KC16 ,  4D006KD17 ,  4D006KD24 ,  4D006KE07Q ,  4D006KE16Q ,  4D006KE21Q ,  4D006KE24Q ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PC51

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特開平2-009417
  
• 膜の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-257928   出願人：旭化成株式会社
• 水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-001392   出願人：栗田工業株式会社
• ろ過装置のろ材洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-162881   出願人：株式会社東芝, 東芝エンジニアリング株式会社
• ろ過膜の洗浄再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-121282   出願人：石垣機工株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開平2-009417
  
• 膜の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-257928   出願人：旭化成株式会社
• 水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-001392   出願人：栗田工業株式会社
• ろ過装置のろ材洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-162881   出願人：株式会社東芝, 東芝エンジニアリング株式会社