特許

J-GLOBAL ID：200903073891332796

表面検査装置および方法

発明者： 和田 晃一
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-139825
公開番号（公開出願番号）：特開平11-325860
出願日： 1998年05月21日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 試料の表面の不良を不良検出手段により検出して不良観察手段により観察する表面検査装置を小型化する。【解決手段】 試料2をX方向に移動自在に支持するとともにθ方向に回転自在に支持し、その回転中心のX方向の直線上に不良検出手段23の検出位置と不良観察手段24の観察地点とを位置させる。これらの地点を回転中心の移動範囲の両端に位置させると、X方向の移動距離を試料2の最大長の半分としても、試料2の表面の全域を検査することができ、装置全体が小型となる。

請求項（抜粋）：

試料保持手段により保持された試料を相対移動手段により相対移動させ、この相対移動される試料の表面から不良検出手段により不良を検出し、この検出された不良の位置を位置記憶手段によりデータ保存し、このデータ保存された位置の不良を不良観察手段により観察する表面検査装置であって、前記相対移動手段が試料を水平なX方向に移動自在に支持するとともに水平なθ方向に回転自在に支持し、前記不良検出手段の検出地点と前記不良観察手段の観察地点と前記相対移動手段の回転中心とがX方向の直線上に位置していることを特徴とする表面検査装置。

IPC (4件)：

G01B 11/30 ,  G01B 21/00 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G01B 11/30 D ,  G01B 21/00 D ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 基板外観検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-230488   出願人：花王株式会社