特許
J-GLOBAL ID:200903073933975390

金属薄膜型磁気記録媒体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸山 敏之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-279027
公開番号(公開出願番号):特開平9-120527
出願日: 1995年10月26日
公開日(公表日): 1997年05月06日
要約:
【要約】【課題】 テキスチャー処理の如く微少な粗さを付すことなく、高保磁力化と低ノイズ化を達成する金属薄膜型磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 媒体基板2のサブストレート21上に形成されたNiP層22に低加速電圧のイオンを照射し、非晶質のNiP層22に内部歪みを生じさせた後、下地層4、磁性層5及び保護膜6を順次積層する。照射するイオンとして、例えばアルゴンイオン、酸素イオン又は窒素イオンを用いる。
請求項(抜粋):
非磁性のサブストレート(21)に非晶質のNiP層(22)が形成された媒体基板(2)に、下地層(4)、磁性層(5)及び保護膜(6)を順次積層する金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法において、媒体基板(2)に低加速電圧にてイオンを照射し、非晶質のNiP層(22)の内部に歪みを生じさせた後、下地層(4)、磁性層(5)及び保護膜(6)を順次積層することを特徴とする金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件):
G11B 5/84 ,  G11B 5/66
FI (3件):
G11B 5/84 A ,  G11B 5/84 Z ,  G11B 5/66
引用特許:
審査官引用 (4件)
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