特許

J-GLOBAL ID：200903073965774982

窒素酸化物および金属水銀を含む排ガスの浄化装置

発明者： 加藤 泰良 ,  甲斐 啓一郎
出願人/特許権者： バブコック日立株式会社
代理人 (1件)： 吉岡 宏嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-312537
公開番号（公開出願番号）：特開2008-126124
出願日： 2006年11月20日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：

【課題】少ない触媒量で高い脱硝性能とHg酸化性能とを達成できる排ガスの浄化装置を提供する。【解決手段】触媒充填層を排ガス入り口部から第1層、第2層、及び第3層の順に構成し、前記第1層の触媒を、NH3もしくはその前駆体による窒素酸化物の還元活性と金属水銀を酸化状水銀に酸化する活性とを有する成分からなるものとし、前記第2層の触媒を、NH3もしくはその前駆体による窒素酸化物の還元活性と金属水銀を酸化する活性とを有する成分を第1成分、NH3の酸化分解活性を有する成分を第2成分として両者を含有したものとするとともに、該触媒表面をNH3もしくはその前駆体による窒素酸化物の還元活性と金属水銀を酸化する活性とを有する成分で被覆し、前記第3層の触媒を、前記第1層もしくは前記第2層と同様の触媒からなるものとする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

排ガス中に還元剤を注入後、触媒充填層に導き、排ガス中に含有される窒素酸化物を還元すると共に排ガス中に含有される金属水銀を酸化する排ガス浄化装置であって、前記触媒充填層が排ガス入り口部から第1層、第2層、及び第3層の順に構成され、 前記第1層の触媒は、NH3もしくはその前駆体による窒素酸化物の還元活性と金属水銀を酸化状水銀に酸化する活性とを有する成分からなり、 前記第2層の触媒は、NH3もしくはその前駆体による窒素酸化物の還元活性と金属水銀を酸化する活性とを有する成分を第1成分、NH3の酸化分解活性を有する成分を第2成分として両者を含有し、該触媒表面がNH3もしくはその前駆体による窒素酸化物の還元活性と金属水銀を酸化する活性とを有する成分で被覆され、 前記第3層の触媒は、前記第1層もしくは前記第2層と同一の触媒を含んでなる排ガス浄化装置。

IPC (6件)：

B01D 53/94 ,  B01J 23/30 ,  B01J 23/28 ,  B01J 23/42 ,  B01J 29/26 ,  B01D 53/86

FI (7件)：

B01D53/36 102C ,  B01J23/30 A ,  B01J23/28 A ,  B01J23/42 A ,  B01J29/26 A ,  B01D53/36 E ,  B01D53/36 Z

Fターム (69件)：

4D048AA06 ,  4D048AA08 ,  4D048AA16 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB03 ,  4D048AB05 ,  4D048AC03 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA10X ,  4D048BA11X ,  4D048BA23X ,  4D048BA26X ,  4D048BA27X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA41X ,  4D048BB03 ,  4D048BB15 ,  4D048CC03 ,  4D048CC32 ,  4D048CC47 ,  4D048CC50 ,  4D048CC58 ,  4G169AA02 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA03B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC54A ,  4G169BC54B ,  4G169BC59A ,  4G169BC59B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BC69A ,  4G169BC75B ,  4G169CA02 ,  4G169CA07 ,  4G169CA08 ,  4G169CA10 ,  4G169CA11 ,  4G169CA13 ,  4G169DA06 ,  4G169EA12 ,  4G169EE06 ,  4G169EE07 ,  4G169EE09 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FA06 ,  4G169FB06 ,  4G169FB23 ,  4G169FB30 ,  4G169FB65 ,  4G169ZA06B

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 排ガス中の水銀除去方法およびそのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-031189   出願人：三菱重工業株式会社

審査官引用 (4件)

• 排ガス中微量有害物質の除去装置及びその運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-023859   出願人：バブコック日立株式会社
• 排ガス浄化装置と方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-314506   出願人：バブコック日立株式会社
• 排ガスの脱硝方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-271267   出願人：三菱重工業株式会社
• 排ガス中の水銀除去方法およびそのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-031189   出願人：三菱重工業株式会社