特許
J-GLOBAL ID：200903074045996971
電子線描画方法および電子線描画装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯村 雅俊 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-167594
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016815
出願日： 1997年06月24日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】床からの振動が電子線描画装置に伝達される状態でも、試料室の振動検出信号を電子ビームの偏向補正することで、高精度な描画を行う。【解決手段】床から試料室7へ伝達される振動を振動計13によって検出し、補正信号生成装置14に送る。補正信号生成装置14では、振動計13から検出した試料室7の振動信号と、試料室7の振動に対する電子ビームの位置振動との伝達関数をもとに、電子ビームの位置ずれ量を演算し、電子ビームの位置をリアルタイムに偏向補正する。電子ビームの位置ずれ量を演算する手段として、振動検出信号をフーリエ変換して周波数領域の振動振幅とし、その振動振幅と予め求めた試料室7の振動に対する電子ビームの位置振動との伝達関数とから、位置ずれ量を特定する。
請求項（抜粋）：
電子銃から放出した電子ビームを電子レンズで収束し、該電子ビームを偏向器で偏向し、該電子ビームを試料に照射して、該試料上に所定のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、試料室の振動を受けて、該振動の共振点または該共振点と周辺の振動周波数を分析する第1の工程と、該振動周波数分析の結果と予め記憶されたデータとから電子ビームの位置ずれ量を特定する第2の工程と、該位置ずれ量を電子ビームの照射位置に偏向補正しながらパターンを描画する第3の工程とを有することを特徴とする電子線描画方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/147
, H01J 37/305
H01L 21/30 541 D
, G03F 7/20 504
, H01J 37/147 C
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 B
