特許
J-GLOBAL ID:200903074049233972

真空誘導溶解炉を使用した回転急冷鋳造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内藤 哲寛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-155899
公開番号(公開出願番号):特開2000-343187
出願日: 1999年06月03日
公開日(公表日): 2000年12月12日
要約:
【要約】【課題】真空誘導溶解炉を使用した回転急冷鋳造装置において、タンディッシュ内の溶湯の湯面を安定状態に保持させることである。【解決手段】タンディッシュTの内側に、該タンディッシュTを二分するためのせき板18を配置し、しかも、その下端部に潜りせき19を設けることにより、炉体1のるつぼ1aから連続注湯される溶湯Wを、上流側の注湯室R1 に注湯される際に生じる波立ちが、下流側の供給室R2 に貯留されている溶湯Wに及ばないようにして、その湯面Fを安定させる。
請求項(抜粋):
炉体の傾動により溶湯を出湯させる真空誘導溶解炉と、該溶解炉から出湯された溶湯を一時的に貯留状態にして流出させるためのタンディッシュと、該タンディッシュの一側面に開口した溶湯流出口の外周面が僅かの隙間を有して臨み、しかも、該溶湯流出口から流出された溶湯を連れ回して、その途中で急冷させるための急冷ロールとを備え、これらの設備が真空槽内に配設されて、前記炉体から連続出湯される溶湯を前記タンディッシュを通過させて、前記急冷ロールの外周面に供給して連続鋳造を行う回転急冷鋳造装置であって、前記タンディッシュの内側にせき板を配置して、該せき板に潜りせきを設けたことを特徴とする真空誘導溶解炉を使用した回転急冷鋳造装置。
IPC (5件):
B22D 11/10 310 ,  B22D 11/06 360 ,  B22D 11/18 ,  G01F 23/28 ,  F27D 21/00
FI (6件):
B22D 11/10 310 G ,  B22D 11/06 360 B ,  B22D 11/18 B ,  F27D 21/00 N ,  G01F 23/28 L ,  G01F 23/28 J
Fターム (17件):
2F014AC06 ,  2F014FA01 ,  2F014FA04 ,  4E004DB02 ,  4E004MB02 ,  4E004MB17 ,  4E004PA10 ,  4E004TB09 ,  4K056AA05 ,  4K056AA06 ,  4K056BA03 ,  4K056BA04 ,  4K056BA06 ,  4K056BB07 ,  4K056CA01 ,  4K056FA01 ,  4K056FA17
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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