特許
J-GLOBAL ID:200903074070222670

露光装置、露光装置のプログラム及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 齋藤 和則 ,  伊東 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-326378
公開番号(公開出願番号):特開2008-141018
出願日: 2006年12月01日
公開日(公表日): 2008年06月19日
要約:
【課題】ウエハの再度マーク探索を行う作業性が向上する露光装置、露光装置のプログラム、その露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。【解決手段】上記露光装置は、マスク、ウエハのアライメントマーク検出用のAスコープ105、Bスコープ106の各画像から、マスク、ウエハのアライメントマークを検出する表示画面制御部125と、各画像の少なくとも1つより得る画像、及び、マスクステージ102、ウエハステージ104の少なくとも1つを駆動するアライメントマーク探索操作手段である表示画面127を表示するコンピュータ端末121の表示部123とを有する。表示画面127に前記画像を、マスクステージ102、ウエハステージ104の少なくとも1つの撮像位置に対応して組み合わせた1枚の合成撮像画像を表示する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
原版および基板の少なくとも一方に形成されたマークの位置を計測し、該計測された位置に基づいて該基板を露光する露光装置であって、 該原版および該基板のいずれかを保持し、かつ移動するステージと、 前記ステージに保持された該原版および該基板のいずれかに形成されたマークを撮像するスコープと、 前記ステージの位置を指示するために操作される入力部と、 表示部と、 前記入力部により指示された複数の位置でそれぞれ前記撮像手段により撮像された画像を合成し、該合成された画像を前記表示部に表示させる制御部と、 を有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2件):
H01L21/30 507V ,  G03F7/20 521
Fターム (5件):
5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046FA10 ,  5F046FC03 ,  5F046FC04
引用特許:
出願人引用 (1件)

前のページに戻る