特許

J-GLOBAL ID：200903074096998472

パターン形成用シートおよびパターン形成方法

発明者： 中田 安一 ,  江部 和義
出願人/特許権者： リンテック株式会社
代理人 (1件)： 早川 裕司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-094214
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297722
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】 精度の高いパターン形成を容易に行うことができるパターン形成用シートおよびパターン形成方法を提供する。【解決手段】 エネルギー線硬化性のスタンプ層11を備えたパターン形成用シート1と鋳型Mとを圧着して、鋳型Mが有するパターンをパターン形成用シート1のスタンプ層11に転写し、その状態でエネルギー線の照射によりスタンプ層11を硬化させ、転写したパターンを固定する。そして、パターンが形成されたスタンプ層11にインク2を付着させ、それを基板3にスタンプする。

請求項（抜粋）：

鋳型からパターンを取得し、インクを付着させて基板にスタンプするためのパターン形成用シートであって、エネルギー線硬化性を有する高分子材料を主成分とするスタンプ層を備えたことを特徴とするパターン形成用シート。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/038 501 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/038 501 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 D

Fターム (11件)：

2H025AA03 ,  2H025AA13 ,  2H025AA16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC53 ,  2H025BC92 ,  2H025BC95 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 微細パタ-ンの転写加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-122371   出願人：株式会社荏原製作所, 畑村洋太郎
• マイクロコンタクト・プリンティングによるパターン化されたインジウム亜鉛酸化物フィルムおよびインジウムすず酸化物フィルムの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-117072   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
• パタ-ン形成方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-370629   出願人：富士通株式会社