特許
J-GLOBAL ID：200903074130125718
脱水環化を使用して3-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (9件)：
萼 経夫
, 宮崎 嘉夫
, 加藤 勉
, 小山 京子
, 小野塚 薫
, 田上 明夫
, ▲高▼ 昌宏
, 森 則雄
, 山田 清治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-549400
公開番号（公開出願番号）：特表2009-522350
出願日： 2006年01月10日
公開日（公表日）： 2009年06月11日
要約：
【課題】脱水環化を使用した3-ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法を提供する。【解決手段】開示するのは、脱水環化を使用した3-ヒドロキシテトラヒドロフランの製造方法である。更に詳しくは、本発明は、3-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する方法であって、硫酸基を交換基として有する強酸性陽イオン交換樹脂触媒の存在下で、反応温度30°C〜180°C及び反応圧力5000psig(3.44×10MPa)又はそれ未満の反応条件下で、1,2,4-ブタントリオールを脱水環化させることを含む方法に関する。本発明の方法によれば、慣用の方法を使用する場合よりも、高い収率及び生産性にて、3-ヒドロキシテトラヒドロフランを経済的に製造することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
脱水環化を使用して3-ヒドロキシテトラヒドロフランを製造する方法であって、強酸性イオン交換樹脂触媒の存在下で、回分式又は連続固定床反応器を使用して、反応温度30°C〜180°C及び反応圧力5000psig(3.44×10MPa)又はそれ未満の反応条件下で、ラセミ体純度又は光学純度を有する1,2,4-ブタントリオールを反応物として脱水環化せしめて、該反応物のラセミ体純度又は光学純度に等しいラセミ体純度又は光学純度を有する3-ヒドロキシテトラヒドロフランを高収率で得ることからなる方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
4C037DA05
, 4H039CA42
, 4H039CH20
