特許

J-GLOBAL ID：200903074208530649

シリコン基板選択方法、インクジェットヘッド及びインクジェットヘッド製造方法並びにインクジェット記録装置、その製造方法及びインクジェット記録方法、カラーフィルタ製造装置、その製造方法及びカラーフィルタ製造方法並びに電界発光基板製造装置、その製造方法及び電界発光基板製造方法

発明者： 荒川 克治
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-328186
公開番号（公開出願番号）：特開2003-127394
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】 エッチング時に部材の寸法を均一に形成できるようなシリコン単結晶基板材料の選択基準を定量的に表し、そのシリコン単結晶基板を用いたインクジェットヘッド、さらに、そのヘッドを用いた印刷等の記録装置等を得る。【解決手段】Si基板中の酸素濃度が15×1017atoms/cm3 以下の基板を用いて吐出室11等の部材を形成して製造したインクジェットヘッド112と、プリント紙110とラインインクジェットヘッド112との相対位置を変化させるドラム111と、ローラ制御信号に基づいてドラム111を回転させるモータ115と、ラインインクジェットヘッド112の各ノズルからのインクの吐出を制御し、モータ115ローラ制御信号を送信してドラム111の回転を制御するプリント制御手段116とを少なくとも備えている。

請求項（抜粋）：

シリコン単結晶基板に部材を形成する際、形成した前記部材の寸法精度を許容範囲内にするような酸素濃度の前記シリコン単結晶基板を選択することを特徴とするシリコン単結晶基板選択方法。

IPC (10件)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/01 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  G02B 5/20 101 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14

FI (9件)：

G02B 5/20 101 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 101 Z

Fターム (55件)：

2C056EA24 ,  2C056FA02 ,  2C056FA10 ,  2C056FB01 ,  2C056HA05 ,  2C056HA16 ,  2C056HA17 ,  2C057AF93 ,  2C057AN01 ,  2C057AP02 ,  2C057AP33 ,  2C057AP53 ,  2C057AP56 ,  2C057AQ01 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA03 ,  2C057BA15 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  3K007AB04 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007CB01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  5C094AA05 ,  5C094AA08 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094AA55 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094EA05 ,  5C094EB02 ,  5C094FA01 ,  5C094FB01 ,  5C094FB14 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5C094JA20 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435HH11 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10

引用特許：

審査官引用 (1件)

• インクジェット記録ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-239526   出願人：キヤノン株式会社