特許
J-GLOBAL ID:200903074258108158

ジフェニルメタン系ポリイソシアネートの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 社本 一夫 ,  小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  中村 充利
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-514695
公開番号(公開出願番号):特表2008-545745
出願日: 2006年05月23日
公開日(公表日): 2008年12月18日
要約:
より高いハンターラボカラー(L)数を有する、ジフェニルメタンジイソイアネートとポリフェニルポリメチレンポリイソシアネートとを含んだ混合物の製造法であって、少なくとも1種の溶媒の存在下における、ジフェニルメタンジアミンとポリフェニルポリメチレンポリアミンとの対応する混合物とホスゲンとの段階的な反応による方法であり、このとき最初の段階において、対応する塩化カルバモイルとアミン塩酸塩が形成され、そしてその次の段階において、残留している塩化カルバモイルが対応するポリイソシアネートと塩化水素に解離し、アミン塩酸塩がホスゲン化されて最終的に対応するポリイソシアネートが形成され、このとき残留している過剰のホスゲンが反応混合物から除去される時点において、幾らかのアミン塩酸塩が未反応のままである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ジフェニルメタンジイソイアネートとポリフェニルポリメチレンポリイソシアネートとを含む混合物の製造法であって、 少なくとも1種の溶媒の存在下にて、ジフェニルメタンジアミンとポリフェニルポリメチレンポリアミンとの対応する混合物とホスゲンとを複数の段階にて反応させる工程を含み、 最初の段階において、対応する塩化カルバモイルとアミン塩酸塩が形成され、 その後の段階において、残留している塩化カルバモイルが対応するポリイソシアネートと塩化水素に解離し、アミン塩酸塩がホスゲン化されて最終的に対応するポリイソシアネートが形成され、 残留している過剰のホスゲンが反応混合物から除去される時点において、制御された量のアミン塩酸塩が未反応のままであることを特徴とする、上記製造法。
IPC (2件):
C07C 263/10 ,  C07C 265/14
FI (2件):
C07C263/10 ,  C07C265/14
Fターム (11件):
4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AB49 ,  4H006AC55 ,  4H006AD11 ,  4H006BB12 ,  4H006BC37 ,  4H006BC40 ,  4H006BD20 ,  4H006BD70 ,  4H006BD84
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)
  • 化学工学便覧, 20010425, 改訂六版, 233-243頁

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