プラズマイオン源質量分析装置を用いた同位体比分析

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：高田幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-163454
公開番号（公開出願番号）：特開2004-361367
出願日： 2003年06月09日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】本発明では質量分析部に三次元四重極質量分析計(3DQMS)などの四重極分析計(QMS)を搭載したプラズマイオン源質量分析において同位体比を精度良く補正できるように工夫したものである。【解決手段】イオン源にICPあるいはMIPその他のイオン源を用い、質量分析部に三次元四重極質量分析計(3DQMS)などの四重極質量分析計(QMS)を用いて、測定を行うプラズマイオン源の質量分析装置において、二つ以上の同位体比の異なる標準物質を用いてそれぞれ同位体比についての計測値に対する理論値を求めて画面に表示し、画面上に両者間の補間関係式を表示し、測定試料についての測定値を計測し、当該計測された測定値と前記補間関係とから画面上に同位対比の補正値を指し示すようにした。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

イオン源にICP(Inductively Coupled Plasma)あるいはMIP(Microwave Induced Plasma)その他のイオン源を用い、質量分析部に四重極質量分析計(QMS)あるいは三次元四重極質量分析計(3DQMS)を用いるプラズマイオン源質量分析装置において、二つ以上の同位体比の異なる標準物質を用いてそれぞれ同位体比についての計測値に対する理論値による両者間の補間関係式に、測定試料についての測定値を計測し、該計測された測定値を適用して同位体比の補正計算を行うようにしたことを特徴とする質量分析装置。

IPC (3件)：

G01N27/62 , H01J49/10 , H01J49/26

FI (4件)：

G01N27/62 D , G01N27/62 L , H01J49/10 , H01J49/26

Fターム (3件)：

5C038GG09 , 5C038GG13 , 5C038HH16

引用特許：

審査官引用 (1件)

同位体比率プラズマ質量分析装置と方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-251993 出願人：ファイソンズ・ピーエルシー

引用文献：

審査官引用 (2件)

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