特許
J-GLOBAL ID：200903074352114226
位相シフトレチクルと位相シフト露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-259273
公開番号（公開出願番号）：特開平6-110194
出願日： 1992年09月29日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトレチクルと位相シフト露光方法に関し、隣接するホールを透過する露光光が干渉して不要な露光を生じないようにする。【構成】 周囲に露光光の位相が中央に比べて実質的に180度異なる光透過部を有する複数、例えば、第1のホールと第2のホールに相当する透光ホールパターンを具えた位相シフトレチクルにおいて、隣接する第1のホールと第2のホールの透過ホールパターンを透過する露光光の位相を実質的に180度異ならせることによって、第1のホールと第2のホールを透過する露光光が相互に干渉してサイドピークを生じるのを低減した。この場合、第1のホールと第2のホールを透過する露光光の間に実質的に180度の位相差をもたせる手段として、一方の透光ホールパターン上に180度位相シフター材5を形成し、あるいは、レチクル基板に異なる深さの段差部を形成することができる。
請求項（抜粋）：
周囲に露光光の位相が中央に比べて実質的に180度異なる光透過部を有する複数の透過ホールパターンを具えた位相シフトレチクルにおいて、隣接する透過ホールパターンを透過する露光光の位相を実質的に180度異ならせることを特徴とする位相シフトレチクル。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
