特許

J-GLOBAL ID：200903074379044165

化学除染方法

発明者： 遠田 正見 ,  矢板 由美 ,  斉藤 宣久 ,  青井 洋美 ,  稲見 一郎 ,  酒井 仁志 ,  平良木 哲 ,  高松 義成
出願人/特許権者： 株式会社東芝 ,  東芝エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 猪股 祥晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-379425
公開番号（公開出願番号）：特開2002-250794
出願日： 2001年12月13日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】除染対象物母材の腐食を抑制して除染後の材料健全性を確保する。【解決手段】除染対象物9に、生成または付着した放射性物質を含む酸化皮膜を、オゾン発生器21から供給したオゾンが溶解した除染液8の酸化力により前記酸化皮膜を溶解して化学除染するにあたり、前記オゾンが溶解した除染液8に前記除染対象物9の母材腐食を抑制する酸化助剤を添加して循環させる。

請求項（抜粋）：

除染対象物に生成または付着した放射性物質を含む酸化皮膜をオゾンが溶解した水溶液の酸化力により前記酸化皮膜を溶解して化学除染するにあたり、前記オゾンが溶解した水溶液に前記除染対象物の母材腐食を抑制する酸化助剤を添加することを特徴とする化学除染方法。

IPC (4件)：

G21F 9/28 525 ,  G21F 9/28 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/461

FI (4件)：

G21F 9/28 525 D ,  G21F 9/28 525 B ,  C02F 1/42 G ,  C02F 1/46 101 B

Fターム (13件)：

4D025AA09 ,  4D025AB22 ,  4D025BA08 ,  4D025BB02 ,  4D025BB07 ,  4D025DA06 ,  4D025DA09 ,  4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC22 ,  4D061EA04 ,  4D061ED03 ,  4D061FA08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 除染方法とその除染システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-012444   出願人：株式会社東芝
• 特開昭57-085980
  
• 放射能で汚染された金属の除染方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-270989   出願人：株式会社東芝