プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：亀谷美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-031832
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221080
出願日： 1994年02月03日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：

【要約】【目的】安定した放電を得ることが可能であるとともに省スペースの電源回路を備えたプラズマ処理装置を提供する。【構成】本発明によれば、主放電電極11に高電流を印加することが可能な主電源33に加えて、予備放電電極10に高電圧を印加することが可能な補助電源36設置されている。そのため、立ち上がり時の初期放電が安定するとともに、予備放電電極10に過電流が流れないので、カソード室14Aから中間室14へのプラズマの移行を円滑に行うことができる。また電源の台数は増加するが、小型の電源を用いるので、トータルスペースとして省スペース装置を構築することが可能である。

請求項（抜粋）：

不活性ガスをプラズマ化し、そのプラズマから電子を引き出し加速して照射することにより、処理室内に供給される所定の反応ガスを励起してプラズマ化し、このプラズマにより被処理体の処理を行うプラズマ処理装置において、前記不活性ガスをプラズマ化する領域に設けられたカソード電極と、このカソード電極とともに前記不活性ガスを予備放電する予備放電電極と、この予備放電電極よりも処理室側に設けられ予備放電された前記不活性ガスのプラズマ化を促進するための主放電電極と、この主放電電極よりも前記処理室側に設けられプラズマから電子を引き出し加速して前記処理室内に導入するためのアノード電極と、前記カソード電極に電力を供給するためのカソード主電源と、前記予備放電電極に補助電力を供給するためのカソード補助電源を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , C23C 14/44 , H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/302 B , H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

プラズマ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-175914 出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝
特開昭64-027154
特開平4-236774

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