特許

J-GLOBAL ID：200903074432961680

インプリント材料およびそれを用いたパタン形成方法

発明者： 木原 尚子 ,  鎌田 芳幸 ,  白鳥 聡志 ,  内藤 勝之
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-270148
公開番号（公開出願番号）：特開2007-080455
出願日： 2005年09月16日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：

【課題】スピンコーティングおよびインプリントによりハードディスクなどのドーナツ型基板上に凹凸パタンを有する金属酸化膜を形成する際に、欠陥の発生を低減できるインプリント材料およびパタン形成方法を提供する。【解決手段】中央部に穴を有するドーナツ型基板上に、金属アルコキシドおよび金属酸化物からなる群より選択される金属酸化膜前駆体と、フッ素またはケイ素を含むエーテル系非イオン界面活性剤とを含有するインプリント材料を塗布し、前記インプリント材料にスタンパを押し付けて、前記スタンパの凹凸パタンを前記インプリント材料に転写し、プラズマ処理または熱処理により前記インプリント材料から有機成分を除去して、凹凸パタンを有する金属酸化膜を形成することを特徴とするパタン形成方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上に塗布され、インプリントによりスタンパの凹凸パタンが転写されるインプリント材料であって、金属アルコキシドおよび金属酸化物からなる群より選択される金属酸化膜前駆体と、フッ素またはケイ素を含むエーテル系非イオン界面活性剤とを含有することを特徴とするインプリント材料。

IPC (4件)：

G11B 5/73 ,  G11B 5/84 ,  B05D 1/28 ,  B05D 7/24

FI (4件)：

G11B5/73 ,  G11B5/84 Z ,  B05D1/28 ,  B05D7/24 303B

Fターム (24件)：

4D075AC41 ,  4D075BB72X ,  4D075BB92Z ,  4D075CB21 ,  4D075DA06 ,  4D075DC27 ,  4D075EC02 ,  4D075EC35 ,  4D075EC54 ,  5D006CB04 ,  5D006CB05 ,  5D006CB06 ,  5D006CB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D006EA00 ,  5D006FA00 ,  5D112AA02 ,  5D112AA18 ,  5D112AA24 ,  5D112BA02 ,  5D112BA09 ,  5D112BA10 ,  5D112GB01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• SOGを用いた室温ナノ-インプリント-リソグラフィー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-293718   出願人：科学技術振興事業団