有機物含有廃液の処理方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：竹沢荘一 , 中馬典嗣 , 森浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-028363
公開番号（公開出願番号）：特開2009-183908
出願日： 2008年02月08日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：

【課題】廃液中の2価フェノール及び/又はその酸化体を含むこれらの有機成分を除去する。【解決手段】ヒドロキノン及び/又はベンゾキノン等の2価フェノール及び/又はその酸化体を含有する廃液をpH7〜13に調整した後に、ペルオキソ二硫酸塩を添加し、次いでpH調整剤を添加しpHを1〜4とする。これにより前記ヒドロキノン及び/又はベンゾキノンの少なくとも一部が重合しかつ重合体が凝析・沈降して除去される。ペルオキソ二硫酸塩はヒドロキノン等の有効な重合開始剤であり、廃液中のヒドロキノン等を重合させ高分子化して濾過による除去が容易になる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

2価フェノール及び/又はその酸化体を含有する有機物含有廃液の有機物除去処理において、前記廃液のpHを7〜13に調整した後にペルオキソ二硫酸塩を添加し、次いでpHを1〜4とすることで、有機物を除去することを特徴とする有機物含有廃液の処理方法。

IPC (5件)：

C02F 1/58 , C02F 1/72 , C02F 1/28 , C02F 9/00 , C02F 1/02

FI (11件)：

C02F1/58 F , C02F1/72 Z , C02F1/28 D , C02F9/00 502A , C02F9/00 502D , C02F9/00 502H , C02F9/00 502R , C02F9/00 503C , C02F9/00 504B , C02F1/02 Z , C02F9/00 502Z

Fターム (38件)：

4D034AA26 , 4D034CA01 , 4D034CA21 , 4D038AA08 , 4D038AB11 , 4D038BA02 , 4D038BA04 , 4D038BA06 , 4D038BB01 , 4D038BB06 , 4D038BB13 , 4D038BB16 , 4D038BB17 , 4D038BB20 , 4D050AA13 , 4D050AB15 , 4D050BB01 , 4D050BB02 , 4D050BB04 , 4D050BB11 , 4D050BD02 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D050CA01 , 4D050CA06 , 4D050CA13 , 4D050CA15 , 4D050CA20 , 4D624AA04 , 4D624AB04 , 4D624BA02 , 4D624DB03 , 4D624DB06 , 4D624DB18 , 4D624DB20 , 4D624DB23 , 4D624DB24 , 4D624DB29

引用特許：

出願人引用 (1件)

高分散性球状銀粉末及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-289276 出願人：三井金属鉱業株式会社

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