露光方法及び露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-028525
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199413
出願日： 1996年01月23日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】基板ステージ上のセンサ及びこれに付随する回路基板の発熱がアライメント精度や、ステージの位置制御精度に悪影響を与えるのを効果的に抑制する。【解決手段】マスクRのパターンを投影光学系PLを介して感光基板W上に順次転写する際に、基板ステージ14上のセンサ30、34及びこれに付随する電気回路基板36に対する電源供給をオフにした状態で基板ステージ14をステッピングさせる。このため、センサ30、34及び電気回路基板36が露光の際に発熱源となることがなく、これらの発熱による温度分布むらが発生しないのでアライメント精度や、ステージ14の位置制御精度に悪影響を与えることがない。

請求項（抜粋）：

感光基板が搭載された基板ステージを移動させながら、マスクのパターンを投影光学系を介して前記感光基板上に順次転写する露光方法であって、前記基板ステージ上のセンサ及びこれに付随する電気回路基板に対する電源供給をオフにした状態で前記基板ステージを移動させながら、前記マスクのパターンを前記投影光学系を介して前記感光基板上に順次転写する露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (7件)：

H01L 21/30 514 C , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 E , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 516 F , H01L 21/30 525 R

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭63-132427
特開昭62-104123
特開昭62-237281

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