特許
J-GLOBAL ID：200903074536406661
電子ビ-ム計測用ナイフエッジ及びその製法並びに電子ビ-ム計測用ナイフエッジを用いた電子ビ-ム計測法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-145035
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306400
出願日： 1996年05月15日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 電子ビ-ム計測用ナイフエッジを、それを用いて電子ビームの第1及び第2の走査方向の径及びエッジだれを、ともに高精度に測定できるものとして得る。【解決手段】 平らな主面と、その主面に対して垂直な第1及び第2の面を少なくとも有する基板を有し、その基板の第1及び第2の面のそれぞれ上に、互いに異なる電子ビーム透過率または反射率もしくは2次電子放出率を有する2つの層が積層されている積層体が、それを構成している2つの層の間の界面をナイフエッジとするように形成されている。
請求項（抜粋）：
平らな主面と、その主面に対して垂直な第1及び第2の面を少なくとも有する基板を有し、上記基板の第1の面上に、互いに異なる電子ビーム透過率または反射率もしくは2次電子放出率を有する第1及び第2の層がそれらの順に積層されている第1の積層体が上記第1及び第2の層間の界面を第1のナイフエッジとするように形成されているとともに、上記基板の第2の面上に、互いに異なる電子ビーム透過率または反射率もしくは2次電子放出率を有する第3及び第4の層が積層されている第2の積層体が上記第3及び第4の層間の界面を第2のナイフエッジとするように形成されていることを特徴とする電子ビ-ム計測用ナイフエッジ。
IPC (3件)：
H01J 37/04
, G01T 1/29
, H01L 21/027
H01J 37/04 A
, G01T 1/29 A
, H01L 21/30 541 U
