ホログラムの製造方法および装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-312715
公開番号（公開出願番号）：特開2001-236002
出願日： 2000年10月12日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】微小面積にホログラムを作成したり、埋め込み型のホログラムを多岐の基材に記録可能とする。【解決手段】パルス幅が900〜10フェムト秒、ピーク出力が1GW以上で、フーリエ限界またはそれと近似できるフェムト秒レーザーを光源とし、該レーザーからのパルスをビームスプリッターにより二つに分割し、二つのビームを光学遅延回路を介して時間的に制御し、かつ微小回転する反射面が平面のミラーと凹面のミラーを用いて空間的に制御し、ホログラムを記録する基材表面または基材内部に、偏光面を平行にして、エネルギー密度100GW/cm2 以上で集光し、二つのビームの集光スポットを時間的および空間的に合致させることにより、透明材料、半導体材料、または金属材料に不可逆的にホログラムを記録する二ビームレーザー干渉露光法によるホログラムの製造方法および装置。

請求項（抜粋）：

パルス幅が900〜10フェムト秒、ピーク出力が1GW以上で、フーリェ限界またはそれと近似できるフェムト秒レーザーを光源とし、該レーザーからのパルスをビームスプリッターにより二つに分割し、二つのビームを光学遅延回路を介して時間的に制御し、かつ微小回転する反射面が平面のミラーと凹面のミラーを用いて空間的に制御し、ホログラムを記録する基材表面または基材内部に、偏光面を平行にして、エネルギー密度100GW/cm2 以上で集光し、二つのビームの集光スポットを時間的および空間的に合致させることにより、高密度エネルギー照射によって生じる基材材料のアブレーションまたは基材材料の原子配列構造変化による基材表面の形状変化および/または基材材料の屈折率変化により、透明材料、半導体材料、または金属材料に不可逆的にホログラムを記録することを特徴とする二ビームレーザー干渉露光法によるホログラムの製造方法。

IPC (5件)：

G03H 1/04 , G02B 5/18 , G02B 5/32 , H01S 3/00 , H01S 5/125

FI (5件)：

G03H 1/04 , G02B 5/18 , G02B 5/32 , H01S 3/00 B , H01S 5/125

Fターム (31件)：

2H049AA25 , 2H049AA34 , 2H049AA44 , 2H049AA65 , 2H049CA05 , 2H049CA08 , 2H049CA15 , 2H049CA28 , 2H049CA30 , 2K008BB01 , 2K008BB03 , 2K008BB08 , 2K008EE01 , 2K008EE04 , 2K008EE07 , 2K008FF07 , 2K008FF13 , 2K008FF14 , 2K008FF17 , 2K008HH01 , 2K008HH18 , 5F072AB20 , 5F072KK05 , 5F072KK15 , 5F072KK30 , 5F072SS08 , 5F072YY09 , 5F073AA64 , 5F073AA65 , 5F073DA21 , 5F073DA35

引用文献：

審査官引用 (2件)

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