特許
J-GLOBAL ID：200903074593008168

マイクロキャピラリーアレイ、物質注入装置、及びマイクロキャピラリーアレイの製造方法

発明者：
中本 正幸

中本 正幸 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 三好 秀和 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-298169
公開番号（公開出願番号）：特開2003-093898
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
要約：
【要約】【課題】 先端部が先鋭で、機械的強度が強く、信頼性の高いマイクロキャピラリーアレイの製造する方法を提供する。【解決手段】 Si基板11の第1主表面に複数の凹部を形成し、この複数の凹部の内壁3を、金属膜14を含むマイクロキャピラリー材料層で被覆する工程;第1主表面側の複数の凹部が形成された領域の周辺部2において、マイクロキャピラリー材料層とチャンバチャンバ容器(ガラス容器)15とを接合する工程;Si基板11の第2主表面をマイクロキャピラリー材料層の底部が露出するまでエッチングする工程;この露出したマイクロキャピラリー材料層の底部の先端部を、先端部の外形が10nm〜2μmとなるように選択的に除去し、先端開口部17a,17bを形成する工程とからなる。
請求項（抜粋）：
先端開口部の外径10nm以上、2μm以下となるように錐状に絞られ、金属膜を少なくとも一部の層として含む壁により内部に中空のキャピラリー空間を画定した複数のマイクロキャピラリーと、前記複数のマイクロキャピラリーを互いに接続し、前記金属膜を少なくとも一部の層として含む接続部と、前記複数のマイクロキャピラリーの周辺に前記複数のマイクロキャピラリーと連続して設けられ、前記金属膜を少なくとも一部の層として含む周辺部と、該周辺部において接着し、前記キャピラリー空間を集合する空洞部を有するチャンバ容器とを含むことを特徴とするマイクロキャピラリーアレイ。
IPC (5件)：
B01L 3/00 ,  C12M 1/00 ,  C12N 15/09 ,  G01N 35/02 ,  G01N 37/00 102
FI (5件)：
B01L 3/00 ,  C12M 1/00 A ,  G01N 35/02 A ,  G01N 37/00 102 ,  C12N 15/00 A
Fターム (15件)：
2G058AA09 ,  2G058CC02 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024GA12 ,  4B024HA20 ,  4B029AA08 ,  4B029AA23 ,  4B029BB11 ,  4B029BB12 ,  4B029CC13 ,  4B029GA08 ,  4G057AB21 ,  4G057AB31 ,  4G057AB34
引用特許：
審査官引用 (2件)

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