特許

J-GLOBAL ID：200903074601796545

プラズマクリーニング方法及びこの方法に使用される配置領域保護体

発明者： 田村 好宏
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-156977
公開番号（公開出願番号）：特開平8-330243
出願日： 1995年05月30日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：

【要約】【目的】 真空容器内の基板ステージの表面などに堆積した薄膜を除去するプラズマクリーニングを短時間に完了できるようにする。【構成】 基板40の表面の寸法形状又は基板ステージ4の表面のうちの基板配置のための領域の寸法形状に適合した寸法形状の表面を有する誘電体からなる板状の配置領域保護体400を基板40に代えて配置し、エッチング作用のあるガスをガス導入機構2によって真空容器1内に導入するとともにステージ用高周波電源41によって所定の高周波電力を基板ステージ4に印加し、印加された高周波電力によって基板ステージ4の表面の近傍にプラズマを形成し、このプラズマによって基板ステージ4の表面堆積膜を除去する。

請求項（抜粋）：

排気系を備えた真空容器と、真空容器内に所定のガスを導入するガス導入機構と、真空容器内の所定の位置に基板を配置するための基板ステージと、基板ステージに所定の高周波電力を印加するステージ用高周波電源とを備えた真空処理装置において、処理する基板の表面の寸法形状又は基板ステージの表面のうちの基板配置のための領域の寸法形状に適合した寸法形状の表面を有する誘電体からなる板状の配置領域保護体を前記基板ステージの表面のうちの基板配置のための領域に配置してこの領域を覆い、エッチング作用のあるガスを前記ガス導入機構によって真空容器内に導入するとともにステージ用高周波電源によって所定の高周波電力を基板ステージに印加し、印加された高周波電力によって基板ステージの表面の近傍にプラズマを形成し、このプラズマによって生じる前記ガスのエッチング作用を利用して基板ステージの表面堆積膜又は真空容器の内面堆積膜を除去することを特徴とする基板ステージのプラズマクリーニング方法。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/302 N

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ドライクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-028576   出願人：富士電機株式会社
• 特開平4-214873