特許

J-GLOBAL ID：200903074616546928

基板の変形検出機構,処理システム,基板の変形検出方法及び記録媒体

発明者： 森 公平 ,  久米 純次
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-141377
公開番号（公開出願番号）：特開2009-200063
出願日： 2006年05月22日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：

【課題】基板の反り等の変形を検出する。また,基板の処理前に基板の変形を検出することにより基板の破損を防止する。【解決手段】基板Wの変形を検出する機構123において,基板Wを保持する保持部材122A,122B,122C,光を投光する投光部141,投光部141によって投光された光を受光する受光部142を備えた。投光部141から投光された光は,基板Wが正常である場合に保持部材122A,122B,122Cに保持された基板Wの上面が位置するべき高さよりも上方を通る第一の光路L1,及び,基板Wの下面が位置するべき高さよりも下方を通る第二の光路L2を通過する構成とした。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

基板の変形を検出する機構であって, 基板を保持する保持部材を備え, 光を投光する第一の投光器及び第二の投光器と,前記第一の投光器及び/又は第二の投光器によって投光された光を受光する受光器とを備え, 前記第一の投光器から投光された光は,前記保持部材に保持された基板の形状が正常である場合に前記保持部材に保持された正常な形状の基板の上面が位置するべき高さよりも上方を通る第一の光路を通過し, 前記第二の投光器から投光された光は,前記保持部材に保持された正常な形状の基板の下面が位置するべき高さよりも下方を通る第二の光路を通過する構成とし, 前記受光器の検出情報に基づいて基板の形状が正常であるか否かを判定する異常判定部を備え, 前記異常判定部は,前記保持部材に基板が保持された状態において,前記第一の光路及び前記第二の光路が遮断されなかった場合は,前記保持部材に保持された基板は正常であると判定し,前記第一の光路及び/又は前記第二の光路が遮断された場合は,前記保持部材に保持された基板は正常でないと判定することを特徴とする,基板の変形検出機構。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L21/66 J ,  H01L21/306 J ,  H01L21/304 648Z

Fターム (9件)：

4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA47 ,  4M106DB02 ,  4M106DB08 ,  4M106DJ20 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F043GG10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 回転式基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-141270   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板の取り出し方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-368596   出願人：東京エレクトロン株式会社