特許

J-GLOBAL ID：200903074672034018

透過型電子顕微鏡による観察方法

発明者： 小川 真一 ,  井上 靖秀 ,  島貫 純一 ,  森 博太郎
出願人/特許権者： 株式会社半導体先端テクノロジーズ ,  株式会社日産アーク
代理人 (2件)： 日向寺 雅彦 ,  松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-275641
公開番号（公開出願番号）：特開2004-111839
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】非晶質中に存在する空孔などの欠陥の分布状態を明瞭に観察することが可能な透過型電子顕微鏡による観察方法を提供することを目的とする。【解決手段】非晶質体(SP)に含まれる欠陥(DF)を観察するための透過型電子顕微鏡による観察方法であって、非晶質体に電子線(IW)を入射させて得られる回折波(DW)を排除して前記非晶質体から得られる透過波(TW)のみにより結像し、アンダーフォーカス条件で観察する観察方法を提供する。さらにステレオ観察を行うことにより、非晶質中に存在する空孔などの欠陥の形状や分布状態を明瞭に観察することが可能となる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

非晶質体に含まれる欠陥を観察するための透過型電子顕微鏡による観察方法であって、 非晶質体に電子線を入射させて得られる回折波を排除して前記非晶質体から得られる透過波のみにより結像し、アンダーフォーカス条件で観察することを特徴とする透過型電子顕微鏡による観察方法。

IPC (3件)：

H01L21/66 ,  H01J37/21 ,  H01J37/26

FI (3件)：

H01L21/66 N ,  H01J37/21 A ,  H01J37/26

Fターム (8件)：

4M106AA01 ,  4M106AA20 ,  4M106BA02 ,  4M106CB19 ,  4M106DH33 ,  4M106DH38 ,  5C033LL01 ,  5C033SS03