特許
J-GLOBAL ID：200903074736342480
構造体の製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 田中 克郎
, 大賀 眞司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-383629
公開番号（公開出願番号）：特開2005-144586
出願日： 2003年11月13日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】 ガラス基板に対して互いに深さの異なる凹部を形成する際の製造時間を短縮し、製造コストの低減を図ることを可能とする技術を提供すること。 【解決手段】 ガラス基板に深さの異なる複数の凹部を形成してなる構造体の製造方法であって、ガラス基板(10)の第1の凹部を形成すべき領域にレーザ光(12)を照射して当該レーザ光の焦点をガラス基板の厚さ方向に走査することにより、ガラス基板の厚さ方向に延在する変質領域(14)を形成する第1工程と、ガラス基板の一方面及び/又は他方面に、第1の凹部よりも深さの浅い第2の凹部を形成すべき領域を露出させる開口(18)を有するエッチングマスク(16)を形成する第2工程と、ガラス基板に対してエッチングを行い、変質領域に沿った部位に第1の凹部(22)を形成するとともにエッチングマスクの開口に対応する領域に第2の凹部(24)を形成する第3工程と、を含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ガラス基板に深さの異なる複数の凹部を形成してなる構造体の製造方法であって、
ガラス基板の第1の凹部を形成すべき領域にレーザ光を照射して当該レーザ光の焦点を前記ガラス基板の厚さ方向に走査することにより、前記ガラス基板の厚さ方向に延在する変質領域を形成する第1工程と、
前記ガラス基板の一方面及び/又は他方面に、前記第1の凹部よりも深さの浅い第2の凹部を形成すべき領域を露出させる開口を有するエッチングマスクを形成する第2工程と、
前記ガラス基板に対してエッチングを行い、前記変質領域に沿った部位に前記第1の凹部を形成するとともに前記エッチングマスクの開口に対応する領域に前記第2の凹部を形成する第3工程と、
を含む、構造体の製造方法。
IPC (5件)：
B81C1/00
, B01J19/12
, B05C5/00
, B23K26/00
, B41J2/16
B81C1/00
, B01J19/12 B
, B05C5/00 101
, B23K26/00 320E
, B41J3/04 103H
2C057AF93
, 2C057AP23
, 2C057AP31
, 2C057AQ01
, 4E068AE01
, 4E068CA03
, 4E068CA11
, 4E068DA00
, 4E068DB13
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA12
, 4F041BA17
, 4G075AA30
, 4G075BA05
, 4G075BC06
, 4G075CA36
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EB31
, 4G075FA05
, 4G075FB06
