特許
J-GLOBAL ID：200903074836263102
透明導電膜の製造方法および透明導電膜
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-123450
公開番号（公開出願番号）：特開2007-294355
出願日： 2006年04月27日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】低抵抗かつ高透過率の透明導電膜を再現性良く製造できる方法を提供する。【解決手段】基材上に透明導電膜を形成する方法であって、(I)基材表面に親水性領域が疎水性領域によって隔てられた網目パターンを形成する工程と、(II)前記網目パターンが形成された基材上に、有機溶剤相中に導電性粒子を含むW/O型エマルジョンからなる塗布液を塗布し、乾燥させて、前記疎水性領域に導電性粒子を付着させる工程と、(III)前記疎水性領域に付着した導電性粒子を焼結させる工程を有することを特徴とする透明導電膜の製造方法。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基材上に透明導電膜を形成する方法であって、(I)基材表面に親水性領域が疎水性領域によって隔てられた網目パターンを形成する工程と、(II)前記網目パターンが形成された基材上に、有機溶剤相中に導電性粒子を含むW/O型エマルジョンからなる塗布液を塗布し、乾燥させて、前記疎水性領域に導電性粒子を付着させる工程と、(III)前記疎水性領域に付着した導電性粒子を焼結させる工程を有することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01B13/00 503B
, H01B5/14 A
5G307FA01
, 5G307FA02
, 5G307FB02
, 5G307FC09
, 5G323BA01
, 5G323BB01
, 5G323BB02
