特許
J-GLOBAL ID:200903009400330118
導電膜および導電膜の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-060117
公開番号(公開出願番号):特開2003-151364
出願日: 2002年03月06日
公開日(公表日): 2003年05月23日
要約:
【要約】【課題】細い線幅で高い導電性を示す導電膜およびその製造方法を提供することを課題とする。また、微細なパターン形状を有する導電膜およびその製造方法を提供することを課題とする。さらには、高い透明性を有しかつ視認性に優れた透明な導電膜およびその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 少なくとも基材上にと導電層を有する導電膜であって、該導電層が表面凹凸層を含み、かつ該表面凹凸層の片面にパターニングされた疎水性部分を具備し、かつ該疎水性部分が形成されていない部分に導電部分が形成されてなることを特徴とする導電膜及びその製造方法を提供するものである。
請求項(抜粋):
少なくとも基材上にと導電層を有する導電膜であって、該導電層が表面凹凸層を含み、かつ該表面凹凸層の片面にパターニングされた疎水性部分を具備し、かつ該疎水性部分が形成されていない部分に導電部分が形成されてなることを特徴とする導電膜。
IPC (3件):
H01B 5/14
, H01B 13/00 503
, H01J 29/88
FI (3件):
H01B 5/14 A
, H01B 13/00 503 B
, H01J 29/88
Fターム (10件):
5C032AA02
, 5C032DD02
, 5C032DE01
, 5C032DG02
, 5G307FA03
, 5G307FC09
, 5G323AA03
, 5G323BA01
, 5G323BA02
, 5G323BB06
引用特許: