塗布、現像装置及びその方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 水野洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-014714
公開番号（公開出願番号）：特開2006-203075
出願日： 2005年01月21日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：

【課題】処理ブロックと露光装置との間に介在するウエハWの搬送手段に異常が発生した場合に、塗布膜形成用の単位ブロック内のウエハWに対して通常の処理を行うことにより、基板の歩留まりの低下を抑えること。【解決手段】ウエハWに対してレジスト膜を形成した後、露光装置に搬送し、露光後の基板を現像処理する処理ブロックS2に、塗布膜形成用の単位ブロックであるTCT層B3、COT層B4、BCT層B5と、現像処理用の単位ブロックであるDEV層B1,B2とを互いに積層して設けると共に、前記処理ブロックS2と露光装置S4との間に搬送手段Bを設ける。この搬送手段Bに異常が起きたときに、TCT層B3、COT層B4、BCT層B5内に存在するウエハWに対して、当該単位ブロック内で通常の処理を行った後、収容ユニット4に退避させると共に、これら単位ブロック内へのウエハWの搬入を禁止する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板に対してレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、 a)1個の塗布膜形成用の単位ブロックまたは互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックと、前記塗布膜形成用の単位ブロックに対して積層された現像処理用の単位ブロックと、を含み、各単位ブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段Aと、を備えた処理ブロックと、 b)塗布膜形成用の単位ブロックに設けられ、その単位ブロックにおける基板の収容枚数に応じた枚数の基板を収容できる退避用の第1の基板収容部と、 c)前記処理ブロックと露光装置との間に介在する基板の搬送手段Bと、 d)前記搬送手段Bに異常が起きたときに、塗布膜形成用の単位ブロック内に存在する基板に対して、当該単位ブロック内で通常の処理が行われた後、前記退避用の第1の基板収容部に各基板を退避するようにその単位ブロック内の搬送手段Aを制御すると共に、塗布膜形成用の単位ブロック内への基板の搬入を禁止するための制御指令を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/677

FI (3件)：

H01L21/30 562 , H01L21/68 A , H01L21/30 502J

Fターム (35件)：

5F031CA02 , 5F031DA01 , 5F031DA08 , 5F031DA17 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA02 , 5F031GA44 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA50 , 5F031HA13 , 5F031HA48 , 5F031HA59 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA30 , 5F031NA02 , 5F031NA09 , 5F031NA15 , 5F031NA16 , 5F031PA02 , 5F031PA10 , 5F031PA30 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046JA27 , 5F046KA10 , 5F046LA19

引用特許：

出願人引用 (2件)

基板処理システム及び塗布、現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-397558 出願人：東京エレクトロン株式会社
特許第3337677号公報

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