特許

J-GLOBAL ID：200903074894138237

マスク作製方法及び微小開口を有するマスク

発明者： 山口 貴子 ,  稲生 耕久
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-315125
公開番号（公開出願番号）：特開2005-085922
出願日： 2003年09月08日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：

【課題】微細加工を行う際に用いる微小開口を有するマスクを、短時間で、安価に、簡便に作製することが可能となるマスク作製方法及び微小開口を有するマスクを提供する。【解決手段】第一のマスクを用い、近接場リソグラフィーによって微細パターンを被加工基板に作製し、この第一の工程で作製された微細パターンをもとにして、前記第一のマスクの開口間隔よりも狭い開口幅の微小開口を有する第二のマスクを作製するように構成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

第一のマスクを用い、近接場リソグラフィーによって微細パターンを被加工基板に作製する第一の工程と、 前記第一の工程で作製された微細パターンをもとにして、前記第一のマスクの開口間隔よりも狭い開口幅の微小開口を有する第二のマスクを作製する工程と、 を有することを特徴とするマスク作製方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F1/08

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  G03F1/08 A

Fターム (8件)：

2H095BA03 ,  2H095BA08 ,  2H095BA10 ,  2H095BB01 ,  2H095BB06 ,  5F046AA25 ,  5F046BA10 ,  5F046CA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-322231   出願人：キヤノン株式会社