特許

J-GLOBAL ID：200903074929691198

金属酸化物薄膜およびその製造方法

発明者： 篠原 賢次
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-100664
公開番号（公開出願番号）：特開2005-281102
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

【課題】 プラズマ曝露や過度な過熱による、基材や金属酸化物薄膜へのダメージを抑えながら、結晶性の金属酸化物薄膜を効果的に形成する技術を提供する。【解決手段】 先ず非晶質からなる金属酸化物薄膜を基材に製膜し、次いで、非加熱にて高周波電界中で低温プラズマ処理を行い、さらにプラズマ処理のポスト処理として、プラズマを含まない雰囲気、好ましくは大気雰囲気で加熱処理することにより、結晶性金属酸化物薄膜を製造する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

非晶質金属酸化物薄膜を、非加熱状態で、高周波電界中で低温プラズマに曝露し、次いで、プラズマを含まない雰囲気で加熱処理することにより、結晶性の金属酸化物薄膜を製造することを特徴とする、金属酸化物薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

C01B13/14 ,  C01G19/00 ,  C01G23/07 ,  C03C17/25

FI (4件)：

C01B13/14 Z ,  C01G19/00 A ,  C01G23/07 ,  C03C17/25 Z

Fターム (20件)：

4G042DA01 ,  4G042DA02 ,  4G042DB08 ,  4G042DB16 ,  4G042DB24 ,  4G042DD02 ,  4G042DD08 ,  4G042DE04 ,  4G042DE09 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CB06 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4G059AA01 ,  4G059AB09 ,  4G059AC00 ,  4G059AC30 ,  4G059EA04 ,  4G059EB05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 金属酸化物薄膜及びその製造方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2002010181   出願人：株式会社先端技術インキュベーションシステムズ