特許
J-GLOBAL ID:200903074942890507

ガス溶解洗浄水の改質方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-356361
公開番号(公開出願番号):特開2000-176463
出願日: 1998年12月15日
公開日(公表日): 2000年06月27日
要約:
【要約】【課題】電子材料のウェット洗浄工程で使われる、酸化性ガス又は還元性ガスを溶解した電子材料用洗浄水を、不活性な純水に変換して有効に再利用することができるガス溶解洗浄水の改質方法。【解決手段】酸化性ガス又は還元性ガスを溶解した電子材料用洗浄水を、不活性ガスと接触させることにより、不活性な純水に変換することを特徴とするガス溶解洗浄水の改質方法。
請求項(抜粋):
酸化性ガス又は還元性ガスを溶解した電子材料用洗浄水を、不活性ガスと接触させることにより、不活性な純水に変換することを特徴とするガス溶解洗浄水の改質方法。
IPC (2件):
C02F 1/58 ,  C11D 7/50
FI (2件):
C02F 1/58 H ,  C11D 7/50
Fターム (13件):
4D038AA08 ,  4D038AB24 ,  4D038AB27 ,  4D038BB03 ,  4D038BB06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB09 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA31 ,  4H003ED02 ,  4H003FA03 ,  4H003FA48
引用特許:
審査官引用 (2件)

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