特許

J-GLOBAL ID：200903074972281041

浄化槽

発明者： 小和田 孝 ,  片貝 信義 ,  梅原 敏正 ,  日比野 淳
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-105268
公開番号（公開出願番号）：特開平9-290282
出願日： 1996年04月25日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】 既存の単独処理浄化槽を用いて、合併処理可能な浄化槽を提供する。【解決手段】 本発明は、流入口を有した沈澱分離室と、ばっ気室と、沈澱室と、流出口を有した消毒槽をこの順番に連通させた地中埋設の単独処理浄化槽において、前記消毒槽の下流側にポンプを有した流量調整槽を配設し、前記ポンプを介して流量調整槽と連通する膜モジュールを有する地上設置の膜処理槽を設け、該膜処理槽と単独処理浄化槽の沈澱分離室を余剰汚泥返送管にて連通させたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

流入口を有した沈澱分離室と、ばっ気室と、沈澱室と、流出口を有した消毒槽をこの順番に連通させた地中埋設の単独処理浄化槽において、前記消毒槽の下流側にポンプを有した流量調整槽を配設し、前記ポンプを介して流量調整槽と連通する膜モジュールを有する地上設置の膜処理槽を設け、該膜処理槽と単独処理浄化槽の沈澱分離室を余剰汚泥返送管にて連通させたことを特徴とする浄化槽。

IPC (4件)：

C02F 3/00 ZAB ,  C02F 3/00 ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ZAB

FI (4件)：

C02F 3/00 ZAB F ,  C02F 3/00 B ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ZAB K

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 単独処理浄化槽利用の合併処理浄化槽システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-297907   出願人：根本茂
• 膜分離槽及び浄化槽
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-256017   出願人：株式会社クボタ