特許

J-GLOBAL ID：200903074975901938

磁気記録媒体およびその製造方法

発明者： 鈴木 幹夫 ,  ▲高▼木 公惠 ,  陸 文強 ,  大王 宏
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-184351
公開番号（公開出願番号）：特開2001-014657
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】【課題】 フライスティクション特性に優れた磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。【解決手段】 非磁性基板上に非磁性下地膜、磁性膜を形成し、さらにプラズマCVD法によりカーボン保護膜を形成したディスクD上に潤滑膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、潤滑膜の形成に先立ち、エッチング装置2を用い、エッチングガスより生成したプラズマによりカーボン保護膜表面にエッチングを施す。

請求項（抜粋）：

非磁性基板上に非磁性下地膜、磁性膜を形成したディスク上に、プラズマCVD法によりカーボン保護膜を形成し、その上に潤滑膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、潤滑膜の形成に先立ち、エッチングガスより生成したプラズマを用いてカーボン保護膜表面にエッチングを施すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/72

FI (2件)：

G11B 5/84 B ,  G11B 5/72

Fターム (14件)：

5D006AA02 ,  5D006AA05 ,  5D006AA06 ,  5D006DA03 ,  5D006EA03 ,  5D006FA05 ,  5D006FA06 ,  5D112AA07 ,  5D112AA11 ,  5D112AA24 ,  5D112BC05 ,  5D112GA02 ,  5D112GA20 ,  5D112GA22

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-049522
  
• 磁気記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-166135   出願人：ティーディーケイ株式会社
• 磁気記憶体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-232387   出願人：日本電気株式会社