特許
J-GLOBAL ID:200903075055229193

導光体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-150824
公開番号(公開出願番号):特開平9-222514
出願日: 1996年06月12日
公開日(公表日): 1997年08月26日
要約:
【要約】【課題】 出射光の分布が均一化されており大面積のバックライトに用いることが好適な導光体を、高い加工精度で効率的に製造する方法を提供すること。【解決手段】 平坦な基材にフォトレジスト層を形成する工程(図3(a))、フォトレジストを露光する工程(図3(b))、露光されたフォトレジストを現像する工程(図3(c))、フォトレジストの表面を導電化する工程(図3(d))および電鋳工程(図3(e))を含む方法で微細な凹凸断面形状の表面を持つスタンパー(図3(f))を作製し、該スタンパーを使用して成形することにより導光体を得ることを特徴とする。
請求項(抜粋):
平坦な基材にフォトレジスト層を形成する工程、フォトレジストを露光する工程、露光されたフォトレジストを現像する工程、フォトレジストの表面を導電化する工程および電鋳工程を含む方法で微細な凹凸断面形状の表面を持つスタンパーを作製し、該スタンパーを使用して成形することにより導光体を得ることを特徴とする導光体の製造方法。
IPC (3件):
G02B 6/00 301 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502
FI (3件):
G02B 6/00 301 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502
引用特許:
審査官引用 (7件)
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