特許
J-GLOBAL ID：200903075064062285
微粒子の選択的散布方法および微粒子を選択的に散布した構造体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 静男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-227466
公開番号（公開出願番号）：特開2001-051280
出願日： 1999年08月11日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 基板上の所望領域に微粒子を選択的に散布する方法および液晶用スペーサ粒子の定点散布方法を提供する。【解決手段】 疎水性表面を有する基板表面に選択的な親水化処理を施したのち、該基板表面に微粒子分散水性液を接触させて、親水化処理部分のみに上記微粒子分散水性液を付着させ、次いで乾燥処理する微粒子の選択的散布方法、および上記方法において、微粒子として、液晶用スペーサ粒子を用いる液晶用スペーサ粒子の定点散布方法である。
請求項（抜粋）：
疎水性表面を有する基板表面に選択的な親水化処理を施したのち、該基板表面に微粒子分散水性液を接触させて、親水化処理部分のみに上記微粒子分散水性液を付着させ、次いで乾燥処理することを特徴とする微粒子の選択的散布方法。
Fターム (9件)：
2H089HA15
, 2H089JA07
, 2H089LA19
, 2H089MA01X
, 2H089MA15X
, 2H089NA01
, 2H089QA12
, 2H089QA16
, 2H089TA01
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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