特許
J-GLOBAL ID：200903075071230711
流体処理装置及び洗浄処理システム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-198313
公開番号（公開出願番号）：特開平11-033506
出願日： 1997年07月24日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：
【要約】【課題】 処理用流体の使用量を従来の10分の1以下よりさらに低減することができ、エッチング、分析などの用途を有し、光照射効率を高めることが可能な流体処理装置を提供すること。【解決手段】 開口6から臨んだ処理用流体を被処理物に接触させた後、処理用流体を開口6に引き戻す流体処理路14と、処理用流体を流体処理路14へ導入する導入通路10と、流体処理路14から開口6内に引き戻した処理用流体を排出する排出通路12とを有することを特徴とする被処理物の処理(液体洗浄を除く)を用途とする。用途はエッチング、研磨、分析等である。さらに光照射手段80を設けた。光照射手段は着脱自在でもある。また、超音波素子16を設けた。
請求項（抜粋）：
開口から臨んだ処理用流体を被処理物に接触させた後、該処理用流体を前記開口に引き戻す流体処理路と、処理用流体を前記流体処理路へ導入する導入通路と、前記流体処理路から前記開口内に引き戻した処理用流体を排出する排出通路とを有することを特徴とする被処理物の処理(液体洗浄を除く)を用途とする流体処理装置。
IPC (5件)：
B08B 3/08
, C23F 1/08
, C23G 5/04
, H01L 21/304 341
, G01N 1/32
B08B 3/08 Z
, C23F 1/08
, C23G 5/04
, H01L 21/304 341 N
, G01N 1/32 B
