特許
J-GLOBAL ID:200903075138497580
窒化物半導体レーザ素子
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
豊栖 康弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-273293
公開番号(公開出願番号):特開2002-084035
出願日: 1996年04月17日
公開日(公表日): 2002年03月22日
要約:
【要約】【課題】 室温で連続発振可能な窒化物半導体レーザ素子を実現する。【解決手段】 基板上に形成されたn型層、活性層及びp型層を有する窒化物半導体レーザ素子において、n型層側に電流狭窄層を設け、該電流狭窄層をp型又はi型のAlxGa1-xN(0≦x≦1)とした。
請求項(抜粋):
基板上に形成されたn型層、活性層及びp型層を有する窒化物半導体レーザ素子において、前記n型層側に電流狭窄層が設けられ、該電流狭窄層はp型又はi型のAlxGa1-xN(0≦x≦1)からなることを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (10件):
5F073AA09
, 5F073AA13
, 5F073AA45
, 5F073AA51
, 5F073AA74
, 5F073CA07
, 5F073CB05
, 5F073CB07
, 5F073DA05
, 5F073DA25
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平1-149498
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特開平2-094686
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-203084
出願人:日本電信電話株式会社
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