特許

J-GLOBAL ID：200903075188547694

三次元的に位置決め可能なマスクホルダを有するリソグラフ装置

発明者： ロープストラ エリク ルロフ ,  スペーリング フランク ベルンハルト ,  メイエル ヘンドリクス ヨハネス マリア ,  ファン エイク イアン
出願人/特許権者： フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ ,  アーエスエム リソグラフィー ベスローテン フェンノートシャップ
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-536322
公開番号（公開出願番号）：特表平10-506239
出願日： 1996年03月11日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：

【要約】リソグラフ装置は、サブストレートホルダ(1)、合焦装置(3)及びマスクホルダ(5)を垂直方向に支持するマシンフレーム(45)を有する。サブストレートホルダ(1)を、水平のX軸方向及びこのX軸方向に直交する水平のY軸方向に平行に第1位置決め装置(21)により移動自在にし、マスクホルダ(5)をX軸方向に平行に第2位置決め装置(31)により移動自在にする。サブストレートホルダ(1)及びマスクホルダ(5)を、半導体サブストレート(19)の露光中、X軸方向に同期して移動させる。第2位置決め装置(31)はマスクホルダ(5)をY軸方向に平行に位置決めし、かつ垂直回転軸線(67)の周りに回転できるようにする。このことは、第2位置決め装置(31)の位置決め精度によって決定され、また第2位置決め装置(31)の案内(75)の平行関係及び直線性からのずれによって悪影響を受けないX軸方向に対する平行関係を有することによって達成される。半導体サブストレート(19)を露光する精度は、更に、合焦装置(3)の光学的縮小率に対応する要因によっても改善される。

請求項（抜粋）：

Z軸方向に見て、Z軸方向に直交するX軸方向及びこのX軸方向とZ軸方向の双方に直交するY軸方向に平行に第1位置決め装置によって位置決めされるサブストレートホルダと、Z軸方向に平行な主軸線を有する合焦装置と、第2位置決め装置によってX軸方向に平行に位置決めされるマスクホルダと、放射源とをこの順序で支持するマシンフレームを有するリソグラフ装置において、前記マスクホルダを第2位置決め装置によってY軸方向に平行に位置決めするとともに、Z軸方向に平行な回転軸線の周りに回転自在にしたことを特徴とするリソグラフ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

H01L 21/30 503 D ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 520 A ,  H01L 21/30 515 F

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-314838   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-289985   出願人：株式会社ニコン