回転塗布装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-146285
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017707
出願日： 1994年06月28日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】回転塗布時に余剰の処理液が上部回転板に付着するのを防止することができる回転塗布装置を提供する。【構成】アンダープレート6、トッププレート14およびスペーサ16で閉空間Sが形成され、閉空間S内で基板2が水平支持された状態のままで、アンダープレート6、トッププレート14およびスペーサ16を一体として回転されて、その表面に処理液が塗布される。この閉空間Sにおいては、スペーサ16とトッププレート14との境界部26が、基板2の外周から見て、水平方向に対してほぼ90 ゚の設置角度θをもって上方で、かつ外方向に位置される。このため、基板2を回転させて回転塗布処理を行うと、基板2から外方向に飛散する処理液のすべてがスペーサ16の傾斜面28によって受けられ、処理液Lによるトッププレート14の汚染が防止される。

請求項（抜粋）：

基板を回転させてその表面に供給された処理液を基板表面全体に拡散させることにより処理液を基板に塗布する回転塗布装置において、基板を水平に支持して回転させる回転支持手段と、回転支持手段に支持された基板と所定の間隔を隔てて平行に配置され、基板とともに回転させられる上部回転板と、その上に上部回転板が載置されて回転支持手段及び上部回転板とともに基板が収容された空間を形成して基板及び上部回転板とともに回転させられるとともに、回転支持手段に支持された基板の外周から回転時の径方向かつ水平方向に対して45 ゚から90 ゚までの設置角度をもって上向外方向にその外周が配置された開口部が上部中央に形成されたスペーサと、を有することを特徴とする回転塗布装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502

引用特許：

審査官引用 (2件)

回転カップ式塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-349775 出願人：東京応化工業株式会社
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-302451 出願人：東京エレクトロン株式会社

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