特許

J-GLOBAL ID：200903075199792160

光導波路

発明者： 江利山 祐一 ,  玉木 研太郎 ,  高瀬 英明 ,  宇高 友広
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-394993
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195075
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】 、下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって偏波依存性に優れた光導波路に関する。【解決手段】 下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ(Ra)が0.4μm以下であることを特徴とする光導波路。

請求項（抜粋）：

下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ(Ra)が0.4μm以下であることを特徴とする光導波路。

Fターム (6件)：

2H047KA03 ,  2H047PA02 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA21

引用特許：

審査官引用 (1件)

• シロキサン系ポリマを用いた光導波路の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-042520   出願人：京セラ株式会社